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市场策略丨国产光刻机官宣成功半导体产业链再次得到提振
作者:梁杏
出处:证券市场周刊2024年第36期
近日,工信部公布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,包含氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中,氟化氩光刻机光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm。
国产光刻机取得突破半导体自主(试读)...