聚焦丨预处理涂层技术让下一代晶体管更易制造

作者:刘霞
出处:科学导报2026年第43期

美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室科学家,通过计算机模拟发现了一种简单却精妙的涂层技术:用氧或氟对二硫化钼进行预处理,就能让下一代芯片晶体管的制造变得更容易,同时不会殃及其他“无辜”的原子。相关论文(试读)...