据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于jwU0HHIk/J4sYGQYMzo50LAaJMFjCSJL4Kke5TWaYNI=此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源（试读）...