摘要 ：中频磁控溅射沉积金属薄膜是真空镀膜技术中最常用的技术之一，目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在沉积金属薄膜过程中的工艺参数如中频电流、脉冲负偏压、沉积时间等对薄膜结构及性能的（试读）...