机械化工丨锗抛光片表面清洗研究进展

作者:周铁军 廖彬 马金峰 宋向荣
出处:科技风2021年第02期

摘 要:论述了锗晶片表面清洗的不同方法以及表面清洗的机理。锗晶片的表面清洗分为干法清洗和湿法清洗。湿法清洗一般采用氧化、剥离的清洗原理,即首先采用氧化性溶液将锗晶片表面进行氧化,然后再用一定的化学(试读)...